Verfahren zur Herstellung der Flachen Übergänge durch Laser-Annealing und Kurzzeittempern

EP1264335 Art A1 11. Dezember 2002

Anmelder: Varian Semiconductor Equipment Associates Inc., Ultratech Stepper Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1264335
Aktenzeichen
EP01916675
Anmeldetag
15. März 2001
Veröffentlichung
11. Dezember 2002
Rechtsraum
EP
IPC
H01L21/268H01L21/265H01L21/324
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen
Varian Semiconductor Equipment Associates Inc.
Ultratech Stepper Inc.
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc.

Varian Semiconductor Equipment Associates war ein US-amerikanischer Hersteller von Halbleiteranlagen, seit 2011 Teil von Applied Materials. Die Patente betreffen Ionenimplantation und Halbleiterfertigung.

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