Halbleiterbauelement mit Poren und Verfahren zu dessen Herstellung

EP1265293 Art A3 31. Mai 2006

Anmelder: Infineon Technologies AG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1265293
Aktenzeichen
EP02011123
Anmeldetag
18. Mai 2002
Veröffentlichung
31. Mai 2006
Rechtsraum
EP
IPC
H01L29/06H01L29/08H01L29/417H01L29/861H01L29/78H01L29/868H01L31/105H01L21/225H01L21/3063H01L21/329H01L21/336
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Infineon Technologies AG
Land
🇩🇪 Deutschland
🇩🇪 Infineon Technologies

Deutscher Halbleiterkonzern mit Sitz in Neubiberg bei München, hervorgegangen aus Siemens. Entwickelt und fertigt Halbleiter und Systemlösungen für Automobil-, Industrie- und Sicherheitsanwendungen.

4.937 Patente in unserer Datenbank

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen