Halbleiterbauelement mit Poren und Verfahren zu dessen Herstellung
EP1265293
Art A3
31. Mai 2006
Anmelder: Infineon Technologies AG 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1265293
- Aktenzeichen
- EP02011123
- Anmeldetag
- 18. Mai 2002
- Veröffentlichung
- 31. Mai 2006
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L29/06H01L29/08H01L29/417H01L29/861H01L29/78H01L29/868H01L31/105H01L21/225H01L21/3063H01L21/329H01L21/336
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Infineon Technologies AG
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Infineon Technologies
Deutscher Halbleiterkonzern mit Sitz in Neubiberg bei München, hervorgegangen aus Siemens. Entwickelt und fertigt Halbleiter und Systemlösungen für Automobil-, Industrie- und Sicherheitsanwendungen.
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