Plasmabehandlung einer Porösen Dünnschicht aus Siliziumdioxid
Anmelder: Axcelis Technologies, Inc., Dow Corning Corporation 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1265813
- Aktenzeichen
- EP01918882
- Anmeldetag
- 20. März 2001
- Veröffentlichung
- 13. Juli 2005
- Erteilung
- 13. Juli 2005
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C01B33/12C04B41/50H01L21/312H01L21/316
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Axcelis Technologies, Inc.
Dow Corning Corporation - Land
- 🇺🇸 USA
Axcelis Technologies, Inc. ist ein US-amerikanischer Hersteller von Ionenimplantationsanlagen für die Halbleiterfertigung mit Sitz in Beverly, Massachusetts. Das Patentportfolio ist fast vollständig auf Halbleiter und elektrische Bauelemente konzentriert, ergänzt um Oberflächentechnik und Mess- und Prüftechnik. Das Unternehmen meldet durchgehend seit 2000 an.
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US-amerikanischer Hersteller von Silikonen und siliziumbasierten Materialien mit Sitz in Michigan, gegründet 1943 als Joint Venture von Dow Chemical und Corning. Das Unternehmen firmiert heute als Dow Silicones Corporation.
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