Verfahren zur Herstellung einer Hochfrequenz-Halbleiterstruktur und Hochfrequenz-Halbleiterstruktur

EP1266398 Art A1 18. Dezember 2002

Anmelder: Infineon Technologies AG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1266398
Aktenzeichen
EP01917065
Anmeldetag
5. März 2001
Veröffentlichung
18. Dezember 2002
Rechtsraum
EP
IPC
H01L21/20H01L21/205
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Infineon Technologies AG
Land
🇩🇪 Deutschland
🇩🇪 Infineon Technologies

Deutscher Halbleiterkonzern mit Sitz in Neubiberg bei München, hervorgegangen aus Siemens. Entwickelt und fertigt Halbleiter und Systemlösungen für Automobil-, Industrie- und Sicherheitsanwendungen.

4.872 Patente in unserer Datenbank

Weitere Vertreter

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen