Verfahren zur Veraschung eines Photolackes mit einem Mikrowellen-Plasma in einem Ätzkamer für Dielektrische Schichten und Plasma-Machine dafür
EP1269514
Art B1
16. Mai 2007
Anmelder: LAM RESEARCH CORPORATION, Lam Research Corporation 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1269514
- Aktenzeichen
- EP01926387
- Anmeldetag
- 16. März 2001
- Veröffentlichung
- 16. Mai 2007
- Erteilung
- 16. Mai 2007
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01J37/32H01L21/311
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- LAM RESEARCH CORPORATION
Lam Research Corporation - Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Lam Research
US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.
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Vertreten von
Browne, Robin Forsythe
Leeds, Großbritannien
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