Methode für eine Prozedur zur Anpassung der Schichtdicke Während eines Spin-Coating Verfahrens
EP1272902
Art A2
8. Januar 2003
Anmelder: ASML Holding N.V., Silicon Valley Group, Inc. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1272902
- Aktenzeichen
- EP01916364
- Anmeldetag
- 2. März 2001
- Veröffentlichung
- 8. Januar 2003
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/16
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- ASML Holding N.V.
Silicon Valley Group, Inc. - Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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Fachgebiete
Vertreten von
Van den Hooven, Jan
Veldhoven, Niederlande
677
Patente gesamt
18
Fachgebiete
2
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
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McGowan, Cathrine
NoneLondon
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Potter, Julian Mark
WP Thompson · London