Methode und Instrument zur Wafer-Inspektion und Elektronenstrahlgerät
EP1273907
Art A1
8. Januar 2003
Anmelder: EBARA CORPORATION, Ebara Corporation, Nikon Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1273907
- Aktenzeichen
- EP01980963
- Anmeldetag
- 2. November 2001
- Veröffentlichung
- 8. Januar 2003
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G01N23/225H01J37/28
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- EBARA CORPORATION
Ebara Corporation
Nikon Corporation - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Ebara
Japanischer Hersteller von Pumpen, Kompressoren und Umwelttechnik mit Sitz in Tokio, gegründet 1912.
373 Patente in unserer Datenbank
🇯🇵
Nikon
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.
3.320 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Wagner, Karl H
München, Deutschland
2.990
Patente gesamt
33
Fachgebiete
17
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Wagner, Karl H., Dipl.-Ing
NoneMünchen