Verfahren zum Verringern der Abmessungen eines Bildmusters in einer Photoresistschicht
EP1273974
Art B1
3. Juni 2009
Anmelder: TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1273974
- Aktenzeichen
- EP02254346
- Anmeldetag
- 21. Juni 2002
- Veröffentlichung
- 3. Juni 2009
- Erteilung
- 3. Juni 2009
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/40
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Ohka Kogyo
Tokyo Ohka Kogyo (TOK) ist ein japanischer Chemiekonzern, der vor allem Fotolacke und Materialien für die Halbleiterfertigung herstellt. Das Portfolio konzentriert sich entsprechend auf Optik und Fototechnik sowie Halbleiter- und Bauelemente-Technik, ergänzt durch Kunststoff- und organische Chemie. Anmeldungen sind von 2000 bis in die Gegenwart belegt.
927 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Hayes, Adrian Chetwynd
London, Großbritannien
1.713
Patente gesamt
31
Fachgebiete
23
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Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Baverstock, Michael George Douglas
NoneLondon