Musterbildungsverfahren unter Verwendung eines Resists
EP1276012
Art B1
23. März 2016
Anmelder: Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1276012
- Aktenzeichen
- EP02254910
- Anmeldetag
- 12. Juli 2002
- Veröffentlichung
- 23. März 2016
- Erteilung
- 23. März 2016
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/039G03F7/40
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD. - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Chemical
Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Shin-Etsu Chemical stellt Siliziumwafer für Halbleiter, Silikonprodukte, PVC und weitere Spezialchemikalien für Elektronik-, Bau- und Industrieanwendungen her.
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Vertreten von
Watson, Robert James
London, Großbritannien
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