Optisches Reduktionssystem mit Kontrolle der Belichtungspolarisation

EP1277073 Art B1 15. November 2006

Anmelder: ASML Holding N.V., ASML US, Inc., Silicon Valley Group, Inc. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1277073
Aktenzeichen
EP01928795
Anmeldetag
25. April 2001
Veröffentlichung
15. November 2006
Erteilung
15. November 2006
Rechtsraum
EP
IPC
G02B27/28G02B17/08G03F7/20
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen
ASML Holding N.V.
ASML US, Inc.
Silicon Valley Group, Inc.
Land
🇳🇱 Niederlande
🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

5.380 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen