Sonde für ein Abtastmikroskop, hergestellt durch Bearbeitung mit Fokussiertem Ionenstrahl
EP1278056
Art A1
22. Januar 2003
Anmelder: SII Nano Technology Inc., Daiken Chemical Co., Ltd, Nakayama, Yoshikazu, Seiko Instruments Inc. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1278056
- Aktenzeichen
- EP01970309
- Anmeldetag
- 28. September 2001
- Veröffentlichung
- 22. Januar 2003
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G01N13/16G12B21/08G12B21/02
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- SII Nano Technology Inc.
Daiken Chemical Co., Ltd
Nakayama, Yoshikazu
Seiko Instruments Inc. - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Seiko Instruments
Japanisches Unternehmen mit Sitz in Chiba, tätig in den Bereichen Präzisionsinstrumente, Uhren und elektronische Bauteile.
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Schickedanz, Willi
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