Lithographisches Gerät und zugehöriges Herstellungsverfahren
EP1278089
Art B1
21. November 2007
Anmelder: ASML Netherlands B.V., Carl Zeiss SMT AG, CARL ZEISS SEMICONDUCTOR MANUFACTURING TECHNOLOGIES AG 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1278089
- Aktenzeichen
- EP02254927
- Anmeldetag
- 12. Juli 2002
- Veröffentlichung
- 21. November 2007
- Erteilung
- 21. November 2007
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G02B7/00G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- ASML Netherlands B.V.
Carl Zeiss SMT AG
CARL ZEISS SEMICONDUCTOR MANUFACTURING TECHNOLOGIES AG - Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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Leeming, John Gerard
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