Apparat zur Erzeugung eines gespülten optischen Weges in einer photolithographischen Projektionsanlage sowie ein entsprechendes Verfahren

EP1279070 Art B1 3. Oktober 2007

Anmelder: ASML Holding N.V., ASML US, Inc., Silicon Valley Group, Inc. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1279070
Aktenzeichen: EP01932838
Anmeldetag: 2. Mai 2001
Veröffentlichung: 3. Oktober 2007
Erteilung: 3. Oktober 2007
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: ASML Holding N.V.
ASML US, Inc.
Silicon Valley Group, Inc.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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