Hochselektives Ätzverfahren für einen Selbstjustierten Kontakt

EP1281193 Art A2 5. Februar 2003

Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1281193
Aktenzeichen
EP01930027
Anmeldetag
10. Mai 2001
Veröffentlichung
5. Februar 2003
Rechtsraum
EP
IPC
H01L21/00
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
TOKYO ELECTRON LIMITED
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

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