Reflektives Projektionsobjektiv für EUV-Photolithographie
EP1282011
Art B1
22. November 2006
Anmelder: Carl Zeiss SMT AG, CARL ZEISS SEMICONDUCTOR MANUFACTURING TECHNOLOGIES AG 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1282011
- Aktenzeichen
- EP02016693
- Anmeldetag
- 26. Juli 2002
- Veröffentlichung
- 22. November 2006
- Erteilung
- 22. November 2006
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20G02B17/06
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Carl Zeiss SMT AG
CARL ZEISS SEMICONDUCTOR MANUFACTURING TECHNOLOGIES AG - Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Carl Zeiss SMT
Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.
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Fachgebiete
Vertreten von
Muschik, Thomas
Stuttgart, Deutschland
18
Patente gesamt
3
Fachgebiete
1
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Muschik, Thomas (DE)
NoneStuttgart