Verfahren zur Herstellung von Schichten eines Nitrid/Oxid-Dielektrikums

EP1282160 Art A1 5. Februar 2003

Anmelder: Infineon Technologies AG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1282160
Aktenzeichen: EP01118458
Anmeldetag: 31. Juli 2001
Veröffentlichung: 5. Februar 2003
Rechtsraum: EP
IPC: H01L21/314H01L21/324H01L21/318H01L21/8242H01L29/92

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Infineon Technologies AG
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Infineon Technologies

Deutscher Halbleiterkonzern mit Sitz in Neubiberg bei München, hervorgegangen aus Siemens. Entwickelt und fertigt Halbleiter und Systemlösungen für Automobil-, Industrie- und Sicherheitsanwendungen.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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