Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung

EP1284444 Art A1 19. Februar 2003

Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1284444
Aktenzeichen
EP02255630
Anmeldetag
13. August 2002
Veröffentlichung
19. Februar 2003
Rechtsraum
EP
IPC
G03F7/20F16J3/04F16L11/15
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
ASML Netherlands B.V.
Land
🇳🇱 Niederlande
🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

5.380 Patente in unserer Datenbank

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen