Verfahren zur Messung der Aberration eines lithographischen Projektionssystems
EP1286223
Art B1
8. März 2006
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1286223
- Aktenzeichen
- EP02255876
- Anmeldetag
- 22. August 2002
- Veröffentlichung
- 8. März 2006
- Erteilung
- 8. März 2006
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
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Leeming, John Gerard
London, Großbritannien
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