Methode zur Reduzierung der Photolack-Verunreinigung von Siliziumkarbid-Schichten
EP1286387
Art A3
2. Juli 2003
Anmelder: Texas Instruments Incorporated 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1286387
- Aktenzeichen
- EP02102203
- Anmeldetag
- 21. August 2002
- Veröffentlichung
- 2. Juli 2003
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/033H01L21/311H01L21/314C23C16/32
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Texas Instruments Incorporated
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Texas Instruments
US-amerikanisches Halbleiterunternehmen mit Sitz in Dallas (Texas). Entwickelt und fertigt analoge und eingebettete Halbleiterprodukte, Prozessoren sowie Schaltkreise für Industrie, Automobil- und Konsumelektronik.
3.600 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Holt, Michael
Northampton, Großbritannien
1.203
Patente gesamt
19
Fachgebiete
7
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Schwerpunkte