Methode zur Reduzierung der Photolack-Verunreinigung von Siliziumkarbid-Schichten

EP1286387 Art A3 2. Juli 2003

Anmelder: Texas Instruments Incorporated 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1286387
Aktenzeichen
EP02102203
Anmeldetag
21. August 2002
Veröffentlichung
2. Juli 2003
Rechtsraum
EP
IPC
H01L21/033H01L21/311H01L21/314C23C16/32
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Texas Instruments Incorporated
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Texas Instruments

US-amerikanisches Halbleiterunternehmen mit Sitz in Dallas (Texas). Entwickelt und fertigt analoge und eingebettete Halbleiterprodukte, Prozessoren sowie Schaltkreise für Industrie, Automobil- und Konsumelektronik.

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