Methode zur Regulierung der Schwellwertspannungen von ultra-dünnen SOI MOS Transistoren
EP1294026
Art A3
30. März 2005
Anmelder: Sharp Kabushiki Kaisha 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1294026
- Aktenzeichen
- EP02019657
- Anmeldetag
- 3. September 2002
- Veröffentlichung
- 30. März 2005
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L29/786H01L29/10
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Sharp Kabushiki Kaisha
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Sharp
Japanischer Elektronikkonzern mit Sitz in Sakai bei Osaka, seit 2016 mehrheitlich zu Foxconn gehörend. Aktiv in Displaytechnik (LCD, OLED), Unterhaltungselektronik, Haushaltsgeräten sowie Halbleiter- und Solartechnologie.
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