Verfahren zur Optimierung der Abbildungseigenschaften mehrerer optischer Elemente
EP1296191
Art B9
7. Mai 2008
Anmelder: Carl Zeiss SMT AG, CARL ZEISS SEMICONDUCTOR MANUFACTURING TECHNOLOGIES AG 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1296191
- Aktenzeichen
- EP02019258
- Anmeldetag
- 28. August 2002
- Veröffentlichung
- 7. Mai 2008
- Erteilung
- 7. Mai 2008
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20G01M11/02
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Carl Zeiss SMT AG
CARL ZEISS SEMICONDUCTOR MANUFACTURING TECHNOLOGIES AG - Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Carl Zeiss SMT
Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.
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Ostertag, Ulrich
Stuttgart, Deutschland
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