Vorrichtungen zur Strahlerzeugung mit mehreren Plasma-Entladungsquellen und mikrolithographische Vorrichtungen-und Verfahren dazu
EP1298965
Art A3
28. Juli 2004
Anmelder: NIKON CORPORATION, Nikon Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1298965
- Aktenzeichen
- EP02017814
- Anmeldetag
- 7. August 2002
- Veröffentlichung
- 28. Juli 2004
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H05G2/00H05H1/24G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- NIKON CORPORATION
Nikon Corporation - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Nikon
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.
3.320 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Meddle, Alan L
München, Deutschland
97
Patente gesamt
25
Fachgebiete
8
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Meddle, Alan Leonard
NoneMünchen