Vorrichtung und Verfahren zur Erzeugung eines den Sollwert der Kritischen Abmessung Aufweisenden Photolackmusters
EP1299772
Art A1
9. April 2003
Anmelder: NXP B.V., Koninklijke Philips Electronics N.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1299772
- Aktenzeichen
- EP01952879
- Anmeldetag
- 15. Juni 2001
- Veröffentlichung
- 9. April 2003
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F1/14G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- NXP B.V.
Koninklijke Philips Electronics N.V. - Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
NXP Semiconductors
Niederländischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Eindhoven. Entwickelt Chips und Halbleiterlösungen für Automobiltechnik, Kommunikation, Sicherheit sowie industrielle Anwendungen.
7.818 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Schouten, Marcus Maria
Eindhoven, Niederlande
3.201
Patente gesamt
30
Fachgebiete
16
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
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van der Veer, Johannis Leendert
NoneEindhoven
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Pennings, Johannes
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Duijvestijn, Adrianus Johannes
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Cobben, Louis Marie Hubert
NoneEindhoven