Spule für Vakuum-Plasmabehandlungsvorrichtung

EP1300057 Art B1 2. Mai 2007

Anmelder: LAM RESEARCH CORPORATION, LAM Research Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1300057
Aktenzeichen: EP01948718
Anmeldetag: 26. Juni 2001
Veröffentlichung: 2. Mai 2007
Erteilung: 2. Mai 2007
Rechtsraum: EP
IPC: H01J37/32

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: LAM RESEARCH CORPORATION
LAM Research Corporation
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

2.725 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von