Verfahren zum photolithographischen Festlegen eines freigelegten Substratbereichs
EP1300880
Art A2
9. April 2003
Anmelder: Infineon Technologies AG 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1300880
- Aktenzeichen
- EP02019495
- Anmeldetag
- 30. August 2002
- Veröffentlichung
- 9. April 2003
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/336H01L29/78H01L21/311H01L21/28
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Infineon Technologies AG
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Infineon Technologies
Deutscher Halbleiterkonzern mit Sitz in Neubiberg bei München, hervorgegangen aus Siemens. Entwickelt und fertigt Halbleiter und Systemlösungen für Automobil-, Industrie- und Sicherheitsanwendungen.
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Vertreten von
Schoppe, Fritz
Pullach, Deutschland
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Schoppe, Fritz, Dipl.-Ing
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