Verfahren zum photolithographischen Festlegen eines freigelegten Substratbereichs

EP1300880 Art A2 9. April 2003

Anmelder: Infineon Technologies AG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1300880
Aktenzeichen
EP02019495
Anmeldetag
30. August 2002
Veröffentlichung
9. April 2003
Rechtsraum
EP
IPC
H01L21/336H01L29/78H01L21/311H01L21/28
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Infineon Technologies AG
Land
🇩🇪 Deutschland
🇩🇪 Infineon Technologies

Deutscher Halbleiterkonzern mit Sitz in Neubiberg bei München, hervorgegangen aus Siemens. Entwickelt und fertigt Halbleiter und Systemlösungen für Automobil-, Industrie- und Sicherheitsanwendungen.

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