Vorrichtung zur Aktiven Kompensation von Aberrationen in einem Optischen System

EP1301818 Art B1 28. Dezember 2005

Anmelder: ASML Holding N.V., ASML US, Inc., Silicon Valley Group, Inc. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1301818
Aktenzeichen: EP01927290
Anmeldetag: 24. April 2001
Veröffentlichung: 28. Dezember 2005
Erteilung: 28. Dezember 2005
Rechtsraum: EP
IPC: G02B27/00G02B26/06G02B26/08G02B7/185

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: ASML Holding N.V.
ASML US, Inc.
Silicon Valley Group, Inc.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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