Verbessertes Verfahren zur Entwicklung in der Halbleiterlithographie
EP1303794
Art B1
16. Oktober 2013
Anmelder: ASML Holding N.V., Silicon Valley Group, Inc. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1303794
- Aktenzeichen
- EP01954972
- Anmeldetag
- 25. Juli 2001
- Veröffentlichung
- 16. Oktober 2013
- Erteilung
- 16. Oktober 2013
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/30
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- ASML Holding N.V.
Silicon Valley Group, Inc. - Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
5.380 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Van den Hooven, Jan
Veldhoven, Niederlande
677
Patente gesamt
18
Fachgebiete
2
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
McGowan, Cathrine
NoneLondon
-
Potter, Julian Mark
WP Thompson · London