F2 Lithographie Laser mit Injektionssynchronisierung
EP1303892
Art A1
23. April 2003
Anmelder: Cymer, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1303892
- Aktenzeichen
- EP00991859
- Anmeldetag
- 28. November 2000
- Veröffentlichung
- 23. April 2003
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01S3/00H01S3/22H01S3/03
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Cymer, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Cymer
Cymer ist ein US-amerikanisches Unternehmen für Lichtquellen zur Halbleiterlithografie, das zum ASML-Konzern gehört. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Optik und Fototechnik. Anmeldungen laufen kontinuierlich seit dem Jahr 2000.
399 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Pfau, Anton Konrad
München, Deutschland
154
Patente gesamt
29
Fachgebiete
13
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Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Grünecker Patent- und Rechtsanwälte PartG mbB
NoneMünchen
-
Grünecker, Kinkeldey, Stockmair & Schwanhäusser Anwaltssozietät
Grünecker, Kinkeldey, Stockmair & Schwanhäusser Anwaltssozietät · München