Halbleitervorrichtung mit mehrschichtigem Aufbau sowie Verfahren zu dessen Herstellung
EP1304563
Art A1
23. April 2003
Anmelder: Infineon Technologies AG 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1304563
- Aktenzeichen
- EP02019081
- Anmeldetag
- 28. August 2002
- Veröffentlichung
- 23. April 2003
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G01N27/327C12Q1/00C12Q1/68
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Infineon Technologies AG
- Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Infineon Technologies
Deutscher Halbleiterkonzern mit Sitz in Neubiberg bei München, hervorgegangen aus Siemens. Entwickelt und fertigt Halbleiter und Systemlösungen für Automobil-, Industrie- und Sicherheitsanwendungen.
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