Halbleitervorrichtung mit mehrschichtigem Aufbau sowie Verfahren zu dessen Herstellung

EP1304563 Art A1 23. April 2003

Anmelder: Infineon Technologies AG 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1304563
Aktenzeichen
EP02019081
Anmeldetag
28. August 2002
Veröffentlichung
23. April 2003
Rechtsraum
EP
IPC
G01N27/327C12Q1/00C12Q1/68
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Infineon Technologies AG
Land
🇩🇪 Deutschland
🇩🇪 Infineon Technologies

Deutscher Halbleiterkonzern mit Sitz in Neubiberg bei München, hervorgegangen aus Siemens. Entwickelt und fertigt Halbleiter und Systemlösungen für Automobil-, Industrie- und Sicherheitsanwendungen.

4.872 Patente in unserer Datenbank

Noch Fragen?

Wir helfen Ihnen gerne weiter. Schreiben Sie uns einfach.

Kontakt aufnehmen