Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1304597
Art A1
23. April 2003
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1304597
- Aktenzeichen
- EP02257251
- Anmeldetag
- 18. Oktober 2002
- Veröffentlichung
- 23. April 2003
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F9/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
5.380 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Raukema, Age
Veldhoven, Niederlande
119
Patente gesamt
19
Fachgebiete
6
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Doolaar, Frans
NoneEnschede
-
Van den Hooven, Jan
NoneVeldhoven
-
Leeming, John Gerard
NoneLondon