Verfahren zur Reinigung und Entschichtung von Photolack in Halbleiteranwendungen mittels NH3-Plasma
EP1307902
Art A2
7. Mai 2003
Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1307902
- Aktenzeichen
- EP01957357
- Anmeldetag
- 31. Juli 2001
- Veröffentlichung
- 7. Mai 2003
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/027G03F7/42B08B7/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Applied Materials, Inc.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Applied Materials
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
6.825 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Bayliss, Geoffrey Cyril
London, Großbritannien
655
Patente gesamt
33
Fachgebiete
15
Anmelder-Länder
Schwerpunkte