Strukturierung Ferroelektrischer Schichten
EP1307906
Art B1
26. März 2008
Anmelder: Qimonda AG, Infineon Technologies AG 🇩🇪
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1307906
- Aktenzeichen
- EP01958059
- Anmeldetag
- 7. August 2001
- Veröffentlichung
- 26. März 2008
- Erteilung
- 26. März 2008
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/311H01L27/115
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Qimonda AG
Infineon Technologies AG - Land
- 🇩🇪 Deutschland
🇩🇪
Infineon Technologies
Deutscher Halbleiterkonzern mit Sitz in Neubiberg bei München, hervorgegangen aus Siemens. Entwickelt und fertigt Halbleiter und Systemlösungen für Automobil-, Industrie- und Sicherheitsanwendungen.
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Vertreten von
Ginzel, Christian
München, Deutschland
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