Technik zur Erzeugung tiefer Mikrostrukturen in einem Photoresist
EP1308785
Art A3
23. August 2006
Anmelder: Eastman Kodak Company, EASTMAN KODAK COMPANY 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1308785
- Aktenzeichen
- EP02079446
- Anmeldetag
- 25. Oktober 2002
- Veröffentlichung
- 23. August 2006
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Eastman Kodak Company
EASTMAN KODAK COMPANY - Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Eastman Kodak
US-amerikanisches Unternehmen mit Sitz in Rochester (New York), traditionell führend in Fotografie- und Bildgebungstechnik. Aktiv in Drucktechnologien, Filmmaterialien sowie chemischer und optischer Bildverarbeitung.
5.597 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Haile, Helen Cynthia
Harrow, Großbritannien
1.759
Patente gesamt
26
Fachgebiete
7
Anmelder-Länder
Schwerpunkte