System und Verfahren zur Wafer-Halterung und Evakuierung in einer Elektronenbestrahlungsanlage
EP1308985
Art A1
7. Mai 2003
Anmelder: JEOL LTD., Sony Corporation, JEOL Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1308985
- Aktenzeichen
- EP02257088
- Anmeldetag
- 11. Oktober 2002
- Veröffentlichung
- 7. Mai 2003
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01J37/18H01J37/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- JEOL LTD.
Sony Corporation
JEOL Ltd. - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
JEOL
Japanisches Unternehmen mit Sitz in Tokio, das wissenschaftliche und industrielle Präzisionsgeräte entwickelt, darunter Elektronenmikroskope, Analysegeräte und Halbleiterfertigungsanlagen.
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Fachgebiete
Vertreten von
Cross, Rupert Edward Blount
London, Großbritannien
2.091
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