Entfernung von Photoresist und Photoresistrückständen auf Halbleitern durch ein Überkritisches Kohlendioxid-Verfahren
EP1309990
Art A1
14. Mai 2003
Anmelder: TOKYO ELECTRON LIMITED, Tokyo Electron Limited 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1309990
- Aktenzeichen
- EP00954102
- Anmeldetag
- 14. August 2000
- Veröffentlichung
- 14. Mai 2003
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/311H01L21/3213H01L21/306G03F7/42B08B7/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- TOKYO ELECTRON LIMITED
Tokyo Electron Limited - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Tokyo Electron
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.
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Boehmert & Boehmert
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Boehmert & Boehmert geht auf die Zulassung von Dr. Karl Boehmert 1931 in Berlin zurück. Mit Standorten in Deutschland, Alicante, Paris und Shanghai bietet die Kanzlei IP aus einer Hand und legt besonderen Wert auf persönliche Mandantenbetreuung statt Anonymität.
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