Verfahren zur Herstellung von Silizium-Einkristall-Wafer
EP1310583
Art B1
1. Oktober 2008
Anmelder: Shin-Etsu Handotai Co., Ltd., Shin-Etsu Handotai Co., Ltd 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1310583
- Aktenzeichen
- EP01943862
- Anmeldetag
- 28. Juni 2001
- Veröffentlichung
- 1. Oktober 2008
- Erteilung
- 1. Oktober 2008
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C30B29/06
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Shin-Etsu Handotai Co., Ltd.
Shin-Etsu Handotai Co., Ltd - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Handotai
Japanisches Unternehmen der Shin-Etsu-Gruppe, das Siliziumwafer für die Halbleiterindustrie herstellt.
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Fachgebiete
Vertreten von
Cooper, John
Glasgow, Großbritannien
821
Patente gesamt
29
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