Photoempfindliche Zusammensetzung für die Herstellung von Photolacken
EP1311907
Art A1
21. Mai 2003
Anmelder: RHODIA CHIMIE 🇫🇷
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1311907
- Aktenzeichen
- EP01940668
- Anmeldetag
- 1. Juni 2001
- Veröffentlichung
- 21. Mai 2003
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/039G03F7/004
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- RHODIA CHIMIE
- Land
- 🇫🇷 Frankreich
🇫🇷
Rhodia
Französisches Spezialchemieunternehmen, das Feinchemikalien und Polymere herstellt und seit der Übernahme 2011 zum belgischen Solvay-Konzern gehört.
1.084 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Andrieu-Sifflet, Isabelle A. J
Aubervilliers, Frankreich
8
Patente gesamt
4
Fachgebiete
1
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Andrieu, Isabelle A. J
NoneAubervilliers