Reagenzzusammensetzung und Verfahren zur Bildung von Metallschichten auf Substraten mittels Chemischer Gasphasenabscheidung

EP1313744 Art A1 28. Mai 2003

Anmelder: ADVANCED TECHNOLOGY MATERIALS, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1313744
Aktenzeichen
EP01964374
Anmeldetag
23. August 2001
Veröffentlichung
28. Mai 2003
Rechtsraum
EP
IPC
C07F9/00
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
ADVANCED TECHNOLOGY MATERIALS, INC.
Land
🇺🇸 USA

Fachgebiete

Kanzlei
Sonnenberg Harrison Partnerschaft mbB München, Deutschland

Aus der Kanzlei Sonnenberg Fortmann hervorgegangen, Teil der internationalen 24IP Law Group mit Büros in Berlin, London, Paris und den USA. Deckt neben Patenten auch Markenrecht, das Einheitliche Patentgericht sowie Datenschutz ab.

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