Vorrichtung und Verfahren für den Fluss von Prozessgas in einer Ultrasauberen Umgebung
EP1313896
Art A2
28. Mai 2003
Anmelder: Texas Instruments Incorporated, TEXAS INSTRUMENTS INCORPORATED, Reflectivity Inc. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1313896
- Aktenzeichen
- EP01973670
- Anmeldetag
- 28. August 2001
- Veröffentlichung
- 28. Mai 2003
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/00C03C15/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Texas Instruments Incorporated
TEXAS INSTRUMENTS INCORPORATED
Reflectivity Inc. - Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Texas Instruments
US-amerikanisches Halbleiterunternehmen mit Sitz in Dallas (Texas). Entwickelt und fertigt analoge und eingebettete Halbleiterprodukte, Prozessoren sowie Schaltkreise für Industrie, Automobil- und Konsumelektronik.
3.600 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Degwert, Hartmut
München, Deutschland
318
Patente gesamt
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Fachgebiete
10
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Schwerpunkte
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