Verfahren zur Herstellung einer Halbleiteranordnung mit Graben-Gate und Entsprechende Anordnung

EP1314195 Art A2 28. Mai 2003

Anmelder: NXP B.V., Koninklijke Philips Electronics N.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1314195
Aktenzeichen
EP01960654
Anmeldetag
9. August 2001
Veröffentlichung
28. Mai 2003
Rechtsraum
EP
IPC
H01L21/336H01L21/331H01L21/8242H01L21/338H01L29/78H01L29/739H01L27/108H01L29/812
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen
NXP B.V.
Koninklijke Philips Electronics N.V.
Land
🇳🇱 Niederlande
🇳🇱 NXP Semiconductors

Niederländischer Halbleiterhersteller mit Sitz in Eindhoven. Entwickelt Chips und Halbleiterlösungen für Automobiltechnik, Kommunikation, Sicherheit sowie industrielle Anwendungen.

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