Herstellungsverfahren für Optische Dünnschicht

EP1315005 Art B1 10. Oktober 2007

Anmelder: NIKON CORPORATION, Nikon Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1315005
Aktenzeichen: EP01961191
Anmeldetag: 30. August 2001
Veröffentlichung: 10. Oktober 2007
Erteilung: 10. Oktober 2007
Rechtsraum: EP
IPC: G02B1/10G03F7/20H01L21/027C03C17/00G02B1/11

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: NIKON CORPORATION
Nikon Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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