Verfahren zur Herstellung einer Schottky-Diode auf einem Siliziumkarbid-Substrat

EP1315202 Art A1 28. Mai 2003

Anmelder: STMicroelectronics S.A. 🇫🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.
EP1315202
Aktenzeichen
EP02354181
Anmeldetag
21. November 2002
Veröffentlichung
28. Mai 2003
Rechtsraum
EP
IPC
H01L21/329H01L29/872
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
STMicroelectronics S.A.
Land
🇫🇷 Frankreich
🇨🇭 STMicroelectronics International

Schweizer Gesellschaft des Halbleiterkonzerns STMicroelectronics, die Chips und Sensoren für Automobiltechnik, Industrie und Unterhaltungselektronik entwickelt.

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