Verfahren zum Beleuchten einer Fotomaske mit Chevron-Beleuchtung
EP1315996
Art A1
4. Juni 2003
Anmelder: ASML Netherlands B.V., ASM LITHOGRAPHY B.V., ASM Lithography 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1315996
- Aktenzeichen
- EP01958877
- Anmeldetag
- 6. Juli 2001
- Veröffentlichung
- 4. Juni 2003
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20G03B27/72
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- ASML Netherlands B.V.
ASM LITHOGRAPHY B.V.
ASM Lithography - Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
5.380 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Van den Hooven, Jan
Veldhoven, Niederlande
677
Patente gesamt
18
Fachgebiete
2
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Leeming, John Gerard
NoneLondon