Reinigungsgase und Ätzgase
Anmelder: National Institute of Advanced Industrial Science and Technology, Asahi Glass Company, Limited, Canon Anelva Corporation, ULVAC, INC., Kanto Denka Kogyo Co., Ltd., SANYO ELECTRIC CO., LTD., Sony Corporation, DAIKIN INDUSTRIES, LTD., TOKYO ELECTRON LIMITED, Renesas Electronics Corporation, Hitachi Kokusai Electric Inc., Panasonic Corporation, ANELVA CORPORATION, Anelva Corporation, Ulvac, Inc., Sanyo Electric Co., Ltd., SONY CORPORATION, Daikin Industries, Ltd., Tokyo Electron Limited, NEC Electronics Corporation, Renesas Technology Corp., Matsushita Electric Industrial Co., Ltd., Research Institute of Innovative Technology for the Earth 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1318542
- Aktenzeichen
- EP01963514
- Anmeldetag
- 7. September 2001
- Veröffentlichung
- 3. April 2013
- Erteilung
- 3. April 2013
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01L21/3065H01L21/205C23C16/44
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- National Institute of Advanced Industrial Science and Technology
Asahi Glass Company, Limited
Canon Anelva Corporation
ULVAC, INC.
Kanto Denka Kogyo Co., Ltd.
SANYO ELECTRIC CO., LTD.
Sony Corporation
DAIKIN INDUSTRIES, LTD.
TOKYO ELECTRON LIMITED
Renesas Electronics Corporation
Hitachi Kokusai Electric Inc.
Panasonic Corporation
ANELVA CORPORATION
Anelva Corporation
Ulvac, Inc.
Sanyo Electric Co., Ltd.
SONY CORPORATION
Daikin Industries, Ltd.
Tokyo Electron Limited
NEC Electronics Corporation
Renesas Technology Corp.
Matsushita Electric Industrial Co., Ltd.
Research Institute of Innovative Technology for the Earth - Land
- 🇯🇵 Japan
Staatliches japanisches Forschungsinstitut (AIST), das breit angelegte angewandte Forschung in Bereichen wie Materialwissenschaft, Energie, Elektronik und Biotechnologie betreibt.
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