Verfahren und Vorrichtung zur Filmherstellung und Reinigungsverfahren
EP1319732
Art B1
21. März 2012
Anmelder: Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd., SEMICONDUCTOR ENERGY LABORATORY CO., LTD. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1319732
- Aktenzeichen
- EP02027587
- Anmeldetag
- 10. Dezember 2002
- Veröffentlichung
- 21. März 2012
- Erteilung
- 21. März 2012
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- C23C14/12C23C14/04C23C14/56H01L33/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd.
SEMICONDUCTOR ENERGY LABORATORY CO., LTD. - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Semiconductor Energy Laboratory
Japanisches Forschungsunternehmen mit Sitz in Atsugi. Semiconductor Energy Laboratory (SEL) forscht an Halbleitertechnologien, Flüssigkristall- und OLED-Displays sowie Dünnschichttransistoren.
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