Fortgeschrittenes Beleuchtungssystem für die Mikrolithographie

EP1319983 Art A3 27. August 2003

Anmelder: ASML Holding N.V., ASML US, Inc. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: EP1319983
Aktenzeichen: EP02023411
Anmeldetag: 18. Oktober 2002
Veröffentlichung: 27. August 2003
Rechtsraum: EP
IPC: G03F7/20G21K5/04G21K1/06

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: ASML Holding N.V.
ASML US, Inc.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Elektrische Energietechnik Optik & Fototechnik

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