Strahlungsquelle hoher Luminosität für die EUV-Lithographie
EP1319988
Art B1
19. Juli 2006
Anmelder: NIKON CORPORATION, Nikon Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1319988
- Aktenzeichen
- EP02258588
- Anmeldetag
- 12. Dezember 2002
- Veröffentlichung
- 19. Juli 2006
- Erteilung
- 19. Juli 2006
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- NIKON CORPORATION
Nikon Corporation - Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Nikon
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.
3.320 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Hoarton, Lloyd Douglas Charles
München, Deutschland
1.651
Patente gesamt
34
Fachgebiete
27
Anmelder-Länder
Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
Meddle, Alan Leonard
NoneMünchen