System und Verfahren zum Reinigen von Teilen von Halbleiterherstellungsgeräteteilen
EP1320879
Art A1
25. Juni 2003
Anmelder: Applied Materials, Inc., Chem Trace Corporation 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1320879
- Aktenzeichen
- EP01965897
- Anmeldetag
- 10. August 2001
- Veröffentlichung
- 25. Juni 2003
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- B08B3/00B08B3/08C11D11/00C23C16/44H01L21/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firmen
- Applied Materials, Inc.
Chem Trace Corporation - Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Applied Materials
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
6.825 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Hrovat, Andrea Darinka
Frankfurt am Main, Deutschland
106
Patente gesamt
22
Fachgebiete
11
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Schwerpunkte
Weitere Vertreter
-
2K Patentanwälte Blasberg Kewitz & Reichel
2K Patentanwälte Blasberg Kewitz & Reichel · Frankfurt am Main