Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
EP1321822
Art A1
25. Juni 2003
Anmelder: ASML Netherlands B.V. 🇳🇱
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1321822
- Aktenzeichen
- EP01310781
- Anmeldetag
- 21. Dezember 2001
- Veröffentlichung
- 25. Juni 2003
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- G03F7/20
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- ASML Netherlands B.V.
- Land
- 🇳🇱 Niederlande
🇳🇱
ASML
Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.
5.380 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Leeming, John Gerard
London, Großbritannien
2.212
Patente gesamt
31
Fachgebiete
20
Anmelder-Länder
Schwerpunkte