Gasverteilungsvorrichtung für Plasmabehandlungsgerät
EP1323178
Art A2
2. Juli 2003
Anmelder: LAM RESEARCH CORPORATION 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- EP1323178
- Aktenzeichen
- EP01977202
- Anmeldetag
- 26. September 2001
- Veröffentlichung
- 2. Juli 2003
- Rechtsraum
- EP
- IPC
- H01J37/32
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- LAM RESEARCH CORPORATION
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Lam Research
US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.
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Vertreten von
Kemp, Paul Geoffrey
Nice, Frankreich
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